技术论文家

光刻技术

• 源EUV掩模检查性能指标

  4月18日,2022年出版

• 回顾基本用含氟化合物的光刻图案和半导体处理

  4月6日,2022年出版

• 对薄膜的电阻率和发射率膜对EUV光刻

  4月1日,2022年出版

• 推动EUV掩模修补的局限性:解决sub-10纳米缺陷与下一代e-beam-based面具修理工具

  发布于2021年12月7日

• 国际设备和系统路线图光刻技术路线图

  发布于2021年11月19日

• High-NA EUVL:光刻技术的下一个主要步骤

  发布于2021年10月5日

• 逆光刻技术:30年从概念到实际,全芯片的现实

  发布于2021年10月1日

• 非常大的接触领域w /高分辨率光刻技术,使下一代面板水平先进的包装

  8月5日,2021年出版

• 裁剪空间熵多光谱ptychography EUV聚焦光束

  7月27日,2021年出版

• 下层EUV光刻技术的优化方法

  发布于2021年7月21日
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