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周评:半导体制造、测试
通过格雷戈里·哈雷——5月19日,2023 -评论:0

TECHCET预测半导体先驱收入,high-ƙ金属电介质和low-ƙ电介质,在2023年下半年将会增加,从目前的百分之零增长率反弹。晶圆开始卷料与扩张在2024年反弹2和3 nm逻辑器件。半还预测本季度半导体销售的全球经济衰退将结束,gi……»阅读更多

腐蚀过程推向更高的选择性,成本控制
通过劳拉·彼得斯——5月18日,2023 -评论:0

等离子体蚀刻也许是最重要过程在半导体制造,和可能是最复杂的工厂操作光刻旁边。将近一半的工厂步骤依赖于等离子体,一个充满活力的电离气体,做他们的工作。尽管微型晶体管和记忆细胞,工程师继续提供可靠的腐蚀过程。“可持续地创造芯片…»阅读更多

管理产量与EUV光刻和推断统计学
通过凯瑟琳德比郡——5月18日,2023 -评论:0

识别问题,实际上影响产量正变得越来越重要,高级节点更加困难,但有进步。尽管他们是密切相关的,收益管理和过程控制是不一样的。收益管理寻求最大化功能设备的数量的线。过程控制重点是保持每个设备层在其des……»阅读更多

周评:半导体制造、测试
通过格雷戈里·哈雷2023年5月- 05 -评论:0

半导体的全球销售下滑但可能稳定,根据一项新的报告半导体产业协会(SIA)。全球半导体销售额下降8.7%相比,2023年第一季度到2022年第四季度,和2022年一季度相比下降了21.3%。销售的2023年3月2023年2月相比增长了0.3%。同时,半报道全球硅片出货……»阅读更多

协助层:EUV光刻的无名英雄
通过凯瑟琳德比郡4月- 20,2023 -评论:0

最先进光刻的讨论集中在三个元素——曝光系统,光掩模,光阻,但这只是挑战的一部分。成功转移模式的光掩模的物理结构晶片还取决于各种电影合作,包括下层、开发人员,和各种表面处理。事实上……»阅读更多

Nanoimprint终于找到立足点
通过格雷戈里·哈雷4月- 20,2023 -评论:1

Nanoimprint光刻,几十年来已经落后于传统光学光刻技术,正成为首选的技术快速发展光子学和生物芯片市场。首次在1990年代中期,nanoimprint光刻(NIL)一直被视为一个低成本替代传统光学光刻技术。即使在今天,零潜在能力啊…»阅读更多

芯片产业的技术论文摘要:4月18日
通过琳达·克里斯坦森——4月18日,2023 -评论:0

新技术论文最近添加到半导体工程图书馆:[表id = 93 /]如果你有研究论文你努力推广,我们将检查它们是否适合我们的全球观众。至少,论文需要研究和记录,与半导体相关的生态系统,和自由市场的偏见。没有成本involv……»阅读更多

周评:半导体制造、测试
通过凯伦·海曼4月- 14,2023 -评论:0

美国参议院多数党领袖查克•舒默(charles Schumer)说,他努力建立人工智能解决国家安全规定和教育问题,据路透社报道。本质上获得成功的“时间就是这种强大的新技术,以防止潜在的广泛损害社会和国家安全,而是把它积极推进使用强,两党……»阅读更多

设计师需要了解棉酚
通过布莱恩•贝利4月- 13,2023 -评论:0

而只有12岁,finFETs达到线的结束。他们正在取代gate-all-around(棉酚),从3 nm[1],预计将产生重大影响芯片是如何设计的。砷化镓今天有两个主要的种——nanosheets和纳米线。对nanosheets有很多困惑,nanosheets和纳米线之间的区别。行业仍…»阅读更多

数字神经形态处理器:Algorithm-HW合作设计(imec /鲁汶KU)
通过技术论文链接- 11年4月,2023 -评论:0

技术论文题为“打开盒子的数字神经形态处理器:对有效algorithm-hardware合作设计”研究人员发表在imec KU鲁汶。“在这项工作中,我们打开黑盒子的数字神经形态处理器算法设计者给神经元处理指令集和塞内加的详细能耗神经形态架构师……»阅读更多

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